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Vom Rasterelektronenmikroskop bis zum Hochgeschwindigkeits-Röntgendiffraktometer – modernste Labortechnik für schnelle und präzise Werkstoffanalysen.

Profitieren Sie von der Kombinationsmöglichkeit verschiedenster, akkreditierter Messverfahren im ZWL.

Neben unserer langjährigen Expertise in der Werkstoffanalytik ist unser breitaufgestellter Gerätepark vor Ort die Basis für aussagekräftige, verlässliche Analyseergebnisse und eine saubere Komplettanalytik. Dank zweier Rasterelektronenmikroskope können wir Elementaranalysen erstellen, die bei Bedarf durch kristalline Phasenanalysen im Röntgendiffraktometer mit einer extrem hohen Auflösung ergänzt werden können. Gerade die Kombination beider Verfahren bietet oftmals neue und ergebnisrelevante Erkenntnisse in der Bauteil- oder Rohstoffanalyse.

LEO 1525 Gemini – FEG-Rasterelektronenmikroskop

Feldemissions – Rasterelektronenmikroskop für Auflösungsmöglichkeiten bis 2 Nanometer mit den Analysen energiedispersive Mikroanalyse, µXRF und CL.

Allgemeine Daten

  • Probenabmessungen lateral 120 mm x 120 mm / Höhe bis 30 mm
  • Beschleunigungsspannung 100 Volt bis 30 kV
  • Sekundärelektronen-Detektor (Everhard-Thornley)
  • High-Efficiency InLens-Detektor für Hochauflösung
  • AsB; winkelsensitiver 4-Quadranten Halbleiter Rückstreuelektronendetektor
  • Infrarot Kamera in der Probenkammer
  • EDX, CL

LEO 1530 VP Gemini – FEG-Rasterelektronenmikroskop

Rasterelektronenmikroskop zur hochauflösenden Darstellung elektrisch leitfähiger, nicht leitfähiger sowie strahlempfindlicher Materialien mit den Zusätzen energiedispersive Mikroanalyse, Cryo-Transfer und VP – Modus.

Allgemeine Daten

  • Beschleunigungsspannung 100 Volt bis 30 kV
  • Probenabmessungen lateral 100 mm x 100 mm / Höhe 40 mm
  • Sekundärelektronen-Detektor (Everhard-Thornley)
  • High-Efficiency InLens-Detektor für Hochauflösung
  • 4-Quadranten Halbleiter Rückstreuelektronendetektor
  • Infrarot Kamera in der Probenkammer
  • Differentielles Pumpensystem mit sehr kurzen Abpumpzeiten
  • VP, EDX, Cryo

Zeiss Gemini 300 – FEG-Rasterelektronenmikroskop

Rasterelektronenmikroskop zur hochauflösenden Darstellung elektrisch leitfähiger, nicht leitfähiger sowie strahlempfindlicher Materialien mit den Zusätzen energiedispersive Mikroanalyse, VP-, nanoVP- und XVP – Modus.

Allgemeine Daten

  • Beschleunigungsspannung 100 Volt bis 30 kV
  • Probenabmessungen lateral 100 mm x 100 mm / Höhe 40 mm
  • Sekundärelektronen-Detektor (Everhard-Thornley)
  • High-Efficiency InLens-Detektor für Hochauflösung
  • High-Efficiency EsB Detektor zur Erzeugung sekundärelektronenfreier Rückstreuelektronenbilder höchster Ortsauflösung
  • Pneumatisch rückziehbarer High-Efficiency Halbleiter Rückstreuelektronendetektor mit 6 Segmenten
  • VPSE-Detektor (SE-Detektor für VP-Modus)
  • 2 CCD Kameras in der Probenkammer
  • Plasmareiniger zur Reinigung der Probenoberflächen
  • Tandem Decel für Abbildung von z.B. strahlsensitiven organischen Proben oder Beschichtungen
  • 3D-Oberflächenmodelierung
  • Differentielles Pumpensystem mit sehr kurzen Abpumpzeiten
  • VP (max. 30Pa Kammerdruck), nano VP (max. 150Pa Kammerdruck), XVP (max. 500Pa Kammerdruck)
  • EDX (Qualitativ und Quantitativ, Line Scan, Elementmapping)

X’PERT PRO – Röntgendiffraktometer

Mit einem der modernsten Röntgendiffraktometersysteme der Firma PANalytical wird die analytische Kompetenz entscheidend ausgebaut. Dank der Kooperation der Firma PANalytical mit dem ZWL stehen uns und Ihnen weltbekannte Spezialisten auf dem Gebiet der Röntgentechnik zur Verfügung.

Unsere Leistungen mit dem X`Pert Pro System

In Verbindung mit dem Hochgeschwindigkeitsdetektor X`Celerator der Firma PANalytical können wir Ihnen folgende Untersuchungen anbieten:

  • Hochgeschwindigkeits – in situ – Röntgendiffraktometrie
  • Anorganische Phasenanalyse an Pulvern und Feststoffen, auch bei kleinster Probenmenge
  • Qualitative und quantitative Phasenanalyse
  • Messung und Darstellung von kinetischen Reaktionen (kristalline Phasenübergängen,
  • Kinetik von Hydratationen, Entwässerungsvorgängen an mineralischen Phasen
  • Messung der Dicke von polykristallinen dünnen Schichten von 3 nm bis 300 nm, inklusive der Interpretation der Rauhigkeit an den Schichtgrenzen
  • Charakterisierung von polykristallinen Schichtsystemen

Die ganze Bandbreite der Werkstoffanalyse

Entdecken Sie unser Verständnis von einer sauberen und schnellen Analytik. Probenpräparation, Bild-, Elementar- und Phasenanalyse sowie Härteprüfungen aus einer Hand.